产品应用：

       高真空条件下制备低熔点材料的均匀微球；

 高真空或超纯气氛保护下，制备高熔点材料的均匀微球；

       预留拓展接口，用于增加沉积模块，用于增材制造的模拟和探究。

技术参数：

       1. 熔融温度范围：室温~ 1200℃；配置进口红外测温仪及热偶；

       2. 极限真空度：7x 10^-3Pa；可通入工作气氛：氩气；用质量流量计控制流量；

       3. 典型的坩埚样品尺寸：φ50X80；

       4. 熔炼电源：35KVA；30-80KHz；

 5. 感应熔炼喷注系统：通过气瓶+减压阀+截止阀+质量流量计将气体引入液滴发生器；通过调整流量来调节液滴的初始速度。

 6. 收集罐可采用冷却介质：真空淬火油（用户自备）；

 7. 液滴发生系统：控制波形、频率和振幅多种样式可选，谐振的初始位置可调，可实现实验参数的大范围调整，以满足工艺摸索的需要

 8. 设备采用触摸屏+PLC控制系统，设有水流继电保护功能，及其它连锁保护。

 9. 设备可以加装高速摄影系统（用户自备），进行辅助分析实验结果。