高真空甩带机

公司电话 024-88096571

产品应用:

       适合各种材料的非晶/微晶薄带、薄片的制备。采用单辊旋淬法制备薄片或薄带非晶材料;

       采用喷铸法制备块状或棒状合金试样,可用于制备大块非晶材料;可采用翻转浇铸法制备块状合金试样。

 

技术参数:

型号

HVSD-B(标准型)

HVSD-10KG(钢密度)

极限真空度

6.67×10-4Pa

压升率

≤0.67Pa/H

抽气系统

分子泵机组

真空测量系统

数显复合真空计

熔炼最高温度

石英坩埚:1500℃;石墨或陶瓷坩埚:2200℃

坩埚容量

                                          普通:15-50g                                                                                                      5-10KG(钢密度)

熔炼电源

                                  35KW,30-80KHz                                                                                        50KW,6KHz/15KW,高频

控制系统

触摸屏+PLC控制

设备尺寸(L×W×H,mm)

2000×1500×1700

2500×1800×1900

用电需求

                                 45KVA,380V/3P/50Hz                                                                                          80KVA,380V/3P/50Hz

铜辊

铜辊非水冷

水冷铜辊

坩埚运动

坩埚X-Y-Z手动调节机构,可变注射角度;

坩埚Y-Z手动调节机构

表面线速度

50m/s,

50m/s,

铜辊转轴密封

磁流体密封

磁流体密封

备注

红外测温仪可选配。

设备自带进水分水器、回水回流器阀门及管路;不配置水循环系统;

★可选配水循环系统:包括不锈钢水箱、水泵、阀门及管路等;

★可根据用户需求非标定制。