电子束物理法提纯设备
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「设备用途」
采用物理冶金提纯法，主要用于冶金级工业硅粉的提纯，用以制备太阳能级多晶硅原材料。
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产品型号
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VEBZ-2
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主真空室
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卧式圆筒型真空室，尺寸φ1000×2000mm，双层水冷。
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主真空室真空获得系统
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扩散泵，罗茨泵，机械泵，高真空气动挡板阀。
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极限真空度
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6.6×10-3Pa（冷态），漏率：≤1×10-7Pa.L/s；压升率：1.33Pa./h。
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双枪电子束系统
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电子枪漏率：≤1×10-7Pa.L/s；工作真空度6.6×10-1Pa-6.6×10-3Pa.（用户可自己提供）。
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加料系统
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加料仓设有电动给料装置，硅料块直径不大于30mm，加料仓下面设有电动进料装置，每次加料量为2kg硅料。加料仓和进料机构之间设有电动闸板阀，采用独立真空获得系统。
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浇铸系统
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设有一套翻转同轴电极。
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出料系统
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出料仓尺寸
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立式U型：φ600×1000，双层水冷，独立真空获得系统。
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料框升降机构
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液压升降机构。
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水冷铜结晶器
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内部尺寸：φ300×800。
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