磁控溅射镀膜系统-主要产品-沈阳好智多新材料制备技术有限公司

磁控溅射镀膜系统

公司电话 024-88096571

设备用途 ：

本系统为单室超高真空磁控溅射镀膜装置, 可用于开发单层及多层功能膜－各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等材料。

主要技术指标
真空指标	极限真空度：≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后)；系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.6x10-4 Pa；停泵关机12小时后真空度：≤5Pa；
真空室	真空室为圆筒型前开门结构，壁挂防污板，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封。
磁控靶	永磁靶Φ50mm\Φ75mm,（强磁可选），射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷；单独挡板
样品	可放置最大Φ100mm基片，加热最高温度 600°C±1°C，直流负偏压-200V或射频偏压
真空获得及测量	分子泵+机械泵，数显复合真空计（皮拉尼规+电离规）
配套电源	直流电源、射频电源、直流脉冲电源
气路	三路进气，质量流量计控制
控制系统	手动或自动
工作压力控制系统	手动或自动
石英晶振膜厚仪	可选
水冷机组	可选
进样室	可选