真空区域熔炼提纯炉-主要产品-沈阳好智多新材料制备技术有限公司

真空区域熔炼提纯炉

公司电话 024-88096571

产品应用：

采用高频感应加热、激光加热或电子束加热，利用杂质元素在固相和液相之间溶解度的不同，通过熔区的运动提纯材料的工艺设备。用于生产高纯度的陶瓷、金属、合金、无机和有机化合物晶体。

技术参数：

1. 感应熔炼水平区熔提纯炉：（HVZM-I）

2. 电子束熔炼垂直区熔提纯炉：（HVZM-EB）

3. 激光束熔炼垂直区熔提纯及单晶生长炉：（HVZM-L）

4. 感应熔炼水平区熔+垂直区熔联合提纯炉：（HVZM-IF）

型号		HVZM-EB	HVZM-L	HVZM-1
真空性能	极限真空度	6.67 x 10^-4Pa	6.67 x 10^-4Pa	6.67 x 10^-4Pa
真空性能	压升率	≤0.67Pa/H	≤0.67Pa/H	≤0.67Pa/H
抽气系统		分子泵+机械泵	分子泵+机械泵	分子泵+机械泵
真空测量系统		数显复合真空计	数显复合真空计	数显复合真空计
最高加热温度		2600℃	2600℃	1800℃
最大棒料尺寸		Dn10mm×200mm	Dn10mm×200mm	Dn20mm×200mm
样品移动速度		1mm/H~360mm/H	1mm/H~360mm/H	0.001~1mm/s
坩埚材质		无坩埚结构	无坩埚结构	水平区熔采用水冷铜坩埚立式区熔采用无坩锅结构
电源最大功率		10~30KW	1.5~2KW	75KW
控制系统		PC+PLC控制系统实现设备的自动控制
设备尺寸(L×W×H,mm)		2700×1500×2100	2700×1500×2100	3000×1500×1600
用电需求		20~40KW,380V/3P/50Hz	10KW,380V/3P/50Hz	90KW,380V/3P/50Hz
设备特性		1. HVZM-D, HVZM-L设有LMC液态金属冷却系统 2. HVZM-1F型的立式区熔模块部分设有LMC液态金属冷却系统