型号

HVHF-M（中低温）

HVHF-CG（超高温）

HVHF-QZ（高压气淬）

极限真空度

6.67×10^-4Pa

6.67×10^-4Pa

6.67×10^-3Pa~6.67×10^-4Pa

压升率

0.67Pa/H

0.67Pa/H

0.67Pa/H

抽气系统

分子泵系统

扩散泵/分子泵机组

真空测量系统

数显复合真空计

最大温区尺寸（可按客户要求定制）

Φ500×700mm

Φ200×300mm

200×200×300mm

淬火方式

                      无      

无

高压气淬

加热方式

双区加热

单区/双区加热

最高工作温度

石墨加热 2500℃

钨加热 2200℃

钼加热 1600℃

温度均匀性

≤±5℃

≤±5℃

≤±5℃

温控精度

±3℃

±3℃

±2℃

隔热屏

石墨加热：硬质碳毡隔热层

钨加热：全金属屏隔热层

全金属保温屏

控制系统

触摸屏+PLC全自动控制系统配备

设备尺寸(L×W×H,mm)

（根据温区要求变化）

1700×1600×3000

1500×1200×1700

2500×2000×2000

用电需求

（按设备实际尺寸变化）

100KW，380V/3P/50Hz

70KW，380V/3P/50Hz

30KW，380V/3P/50Hz