产品应用:
在真空/保护气氛及高温环境下对原材料通过机械加压进行致密化处理及烧结的设备。适用于金属及陶瓷粉末的热压烧结。
技术参数:
型号 |
HVPF/G |
HVPF/W |
HVPF/M |
极限真空度 |
6.67×10-3Pa~6.67×10-4Pa |
||
压升率 |
0.67Pa/H |
||
抽气系统 |
扩散泵/分子泵机组 |
||
真空测量系统 |
数显复合真空计 |
||
机械压力 |
0.5T~200T |
||
加压方式 |
单向/双向 |
||
最高工作温度 |
石墨加热 2500℃ |
钨加热 2200℃ |
钼加热 1600℃ |
温控精度 |
±3℃ |
±3℃ |
±2℃ |
温区尺寸 |
Φ200×180mm |
240×240×240mm |
240×240×240mm |
控制系统 |
PLC控制/手动 |
||
设备尺寸 (根据温区要求变化) |
1400×1200×2500 |
2500×1500×2700 |
2500×1500×2700 |
用电需求 (按设备实际尺寸变化) |
30KW,380V/3P/50Hz |
60KW,380V/3P/50Hz |
50KW,380V/3P/50Hz |
设备特性 |
1.热电偶低温段控温,红外测温仪高温段控温自动转换 2.高温段自然冷却,低温段可充惰性气体快速冷却 3.压力控制系统PID调节,闭环控制 4.分子泵真空机组选配 5.进口优质石墨发热体和硬质碳毡 6.全不锈钢制造,整洁美观 7.触摸屏+PLC全自动控制系统 |
★设备自带进水分水器、回水回流器阀门及管路;不配置水循环系统;
★可选配水循环系统:包括不锈钢水箱、水泵、阀门及管路等;
★可根据用户需求非标定制。